良率超中國臺(tái)灣廠，臺(tái)積電亞利桑那工廠進(jìn)展比想象好

激石Pepperstone(http://qintiejiang.com/)報(bào)道：

臺(tái)積電美國工廠試產(chǎn)良率趕超臺(tái)灣本廠。

周五，據(jù)彭博社援引知情人士消息，臺(tái)積電美國分部總裁Rick Cassidy于周三透露，臺(tái)積電亞利桑那工廠的試產(chǎn)良率已超出其中國臺(tái)灣同級廠房約4個(gè)百分點(diǎn)。

良率指生產(chǎn)芯片中合格產(chǎn)品的比例，是半導(dǎo)體行業(yè)的關(guān)鍵衡量標(biāo)準(zhǔn)之一。一般來說，良率越高，生產(chǎn)率越高。

在上周的財(cái)報(bào)電話會(huì)上，臺(tái)積電董事長魏哲家曾表示：

“我們（在美國）的第一座晶圓廠已于4月開始采用4nm制程技術(shù)進(jìn)行工程晶圓生產(chǎn)，結(jié)果非常令人滿意，良率非常高?！?/p>

根據(jù)規(guī)劃，臺(tái)積電將在美國亞利桑那州鳳凰城建設(shè)三座晶圓廠，其中晶圓一廠（Fab21）是4nm制程晶圓廠，晶圓二廠則是3nm晶圓廠，三廠則預(yù)計(jì)在本世紀(jì)20年代底（2029-2030年）采用2nm或更先進(jìn)的制程技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)。

臺(tái)積電原計(jì)劃在2024年讓其首座亞利桑那州工廠全面投產(chǎn)，但由于缺乏熟練工人，將這一目標(biāo)推遲到了2025年，并將二廠的啟動(dòng)日期從2026年推遲至2027-2028年。這一舉措曾引發(fā)對臺(tái)積電美國工廠生產(chǎn)效率的擔(dān)憂。

目前，魏哲家對美國工廠前景持樂觀態(tài)度，他在上周的電話會(huì)上表示：

“我們現(xiàn)在預(yù)計(jì)第一家工廠將于2025年初開始量產(chǎn)，并有信心讓亞利桑那州工廠實(shí)現(xiàn)與臺(tái)灣廠相同水平的制造質(zhì)量和可靠性。”?????????